光刻机是干什么用的通俗易懂描述（1nm光刻机是干什么的）

光刻机是干什么用的通俗易懂描述？

光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：

有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机，同时用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板。

光刻机（MaskAligner)又名：

掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。

常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

Photolithography（光刻）意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

1nm光刻机是用于半导体芯片制造过程中的一种设备。

在芯片制造过程中，需要在硅晶片表面逐层添加电路。

为了实现这一过程，需要使用光刻机器制造图案。

1nm光刻机一般采用极紫外光或其他非常短的波长光进行制图，以使得图案的精度达到非常高的水平。

这样可以实现更高的集成度和更高的芯片性能。

相比较其他的光刻机型号，1nm光刻机拥有更小的制图参数，可以制造出更高密度的芯片电路。

这对于高端计算机芯片制造非常重要，因为它可以使芯片拥有更多的功能和更快的性能。

光刻机7纳米是指芯片的工艺制程。

7纳米实际是个距离单位，纳米就是毫米的百万分之一长度，在芯片领域纳米指的是芯片的删极宽度，就是芯片的最小构成-硅晶体管的删极宽度。

而光刻机一般是根据光源来分的，所谓7纳米芯片是指用13.5纳米波长的极紫外光euv光刻机，通过技术手段加工出7纳米芯片，也就是所谓的多次曝光，所以并不是光刻机是7纳米的。