电子胶和光刻胶区别？
电子胶和光刻胶的区别如下：
1.基础成分不同：
电子胶主要是硅酮、丙烯酸树脂等，光刻胶主要包含感光剂、增感剂、溶剂、溶媒等。
2.作用原理不同：
电子胶通过物理性粘合，而光刻胶是通过紫外线、电子束等进行曝光，使部分光刻胶化学性质发生变化，然后显影，完成图形转移。
3.应用领域不同：
电子胶广泛应用于玻璃、陶瓷、电子元器件等领域的粘接，而光刻胶主要用于半导体制造。
光刻胶产业链深度解析？
光刻胶，又称光阻剂，是一种应用广泛的半导体材料，广泛用于集成电路制造、液晶显示器制造和其他微纳米加工领域。
光刻胶产业链主要包括以下几个环节：
1.光刻胶原材料：
光刻胶原材料包括有机溶剂、光致硬化剂、无机填料、聚合物等。
其中，有机溶剂和光致硬化剂是光刻胶制备的关键原材料。
2.光刻胶生产加工：
光刻胶的生产加工包括混合、调配、过滤、脱泡、检验等环节。
目前，国内光刻胶生产厂商主要采用批量生产工艺，生产规模较小。
3.光刻胶设备及技术：
光刻胶设备主要包括光刻机、暴光机、显影机等。
此外，还需要掌握先进的光刻技术，如微影技术、多层胶技术等。
4.光刻胶下游应用市场：
光刻胶下游应用市场主要包括集成电路制造、液晶显示器制造和其他微纳米加工领域。
随着人工智能、物联网、5G等新兴技术的快速发展，光刻胶市场需求将不断增长。
总体来说，光刻胶产业链涵盖了原材料、生产加工、设备技术和下游应用市场等多个环节，需要具备先进的技术和设备，同时要不断提高产品质量和技术水平，以满足市场需求。
光刻胶是什么材料做成的？
是树脂做成的
光刻胶原材料主要为树脂、溶剂和其他添加剂。
其中溶剂质量占比最大，一般在80%以上。
其他添加剂质量占比虽不足5%，却是决定光刻胶特有性质的关键材料，包括光敏剂、表面活性剂等材料。
光刻胶什么用途？
光刻胶，又称光致抗蚀剂，具有光化学敏感性。
它的用途是在光的照射下溶解度发生变化，一般以液态涂覆在半导体、导体等基片表面上，曝光烘烤后成固态，它可以实现从掩膜版到基片上的图形转移，在后续的处理工序中保护基片不受侵蚀，是微细加工技术中的关键材料。
使用领域：
印刷电路板、液晶显示器、半导体集成电路、是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一。
