光刻机是什么（封测光刻机是什么）

光刻机是什么？

光刻机（MaskAligner)又名：

掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。

常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫MaskAlignmentSystem.

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

Photolithography（光刻）意思是用光来制作一个图形（工艺）；

在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

通俗易懂来讲光刻机就是个“投影仪”，把我们想要的影子投影到幕布上。

芯片那么精细，是怎么生产出来的呢？用刀刻？用水冲？都不行，因为芯片太精细了，动辄几十nm的线条，日常没有什么材料能做成这么精细的刻刀。

所以我们就想了一个办法，用光线来刻，这也就是光刻机。

封测光刻机跟平常我们常提的光刻机不一样，属于后道光刻机。

后道光刻的精度要求远低于前道光刻的要求，因此封测光刻机制造相对容易，我国上海微电子在封测光刻机方面非常领先。

目前，上海微电子封测光刻机在国内市场的份额达到80%左右，全球市场也占40%。

光刻机除了按光源的先进程度分为EUV、DUV、UV外，按用途还可以分为芯片制造用的前道光刻机和封测用的后道光刻机。

DUV光刻机是一种用于制造微纳米结构的设备，它使用激光技术来将设计图案刻录到芯片表面，从而实现芯片的微细加工。

它通常使用深紫外线（DUV）激光，具有更精细的刻蚀分辨率，可以制造出更小的结构，比如芯片上的微型电路元件。

是对芯片进行封装测试的光刻机。

封装测试是芯片制作的后道工序，需要用到封装机，对芯片进行引脚电路和外壳的加载，这就是封装光刻机。

还需要对成品芯片进行半导体器件加电、热阻测试等。

你好，接近式光刻机是一种用于微电子制造中的光刻技术设备。

光刻技术是一种通过光线照射光刻胶层，然后通过化学处理来形成微细图案的技术。

接近式光刻机是其中的一种光刻机类型，它使用近场投影光刻技术，在接近掩模和感光胶层之间形成接触，并通过接触传递图案。

接近式光刻机具有较高的分辨率和精度，可用于制造微小尺寸的集成电路、微机电系统和其他微纳米器件。

ut光刻机是一家美国光刻机制造商。

ut光刻机美国ultratech的缩写，最后一个光刻机制造商。

当年主流机型是1微米机型，当时已经很难跟佳能尼康竞争了，曾经跟intel共同开发300毫米生产线。

八十年代中期尼康已经和GCA平起平坐，各享三成市占率。

ut占约一成，Eaton、P&E、佳能、日立等剩下几家每家都不到5%。

彼时荷兰阿斯麦尔还未成立。