光刻机什么样？
光刻机是一种高精度的半导体制造设备，通常由光源、光学系统、掩模、曝光台、显影系统等组成。
其主要作用是将芯片设计图案通过掩模映射到硅片上，形成微米级别的芯片结构。
光刻机具有高精度、高速度、高稳定性等特点，能够实现微米级别的制造要求。
目前市场上主要有紫外光刻机和电子束光刻机两种类型，其中紫外光刻机是最常用的一种。
光刻机在半导体制造、光学器件制造、微电子器件制造等领域有着广泛的应用。
01纳米光刻机什么概念？
没有01nm这种光刻机概念。
01nm光刻机是不可能产生的，如果是01nm的话，这个制程比硅原子小25倍，目前人类根本没法分割原子，也没有何时的光源和技术能达到这个制程。
如果是1纳米，以目前的极紫外光光刻机也是不可能达到的，如果换其他光源比如X光又无法控制，根本做不出批量生产的光刻机。
所以01nm光刻机不仅没研究，也不存在这个概念。
